采(cai)用(yong)單(dan)晶片(pian)固態(tai)離(li)子(zi)選擇(ze)電極原(yuan)理(li)，前置(zhi)感測(ce)頭(tou)易於(yu)清洗(xi)電極；PTFE滲出(chu)界面(mian)具有(you)穩定(ding)的(de)參比電位，測(ce)量精(jing)度高(gao)，可配(pei)自動(dong)清洗(xi)裝置(zhi)。$n適用(yong)於(yu)：半(ban)導(dao)體制造(zao)、太陽(yang)能電池、冶金(jin)等(deng)工(gong)業(ye)廢水(shui)處理(li)F-排(pai)放(fang)。

美(mei)國(guo)EPA標(biao)準法(fa)余氯(lv)儀(yi)I-2001 特(te)性 測量波(bo)長：515nm 預設校(xiao)正曲線(xian)（美國EPA標(biao)準(zhun)） 按鍵(jian)自(zi)動確(que)認(ren)歸零功(gong)能 測(ce)試(shi)範圍：0.01-6.00mg/l 薄膜(mo)式(shi)按鍵(jian)，操作簡(jian)單(dan)，讀值數(shu)秒穩(wen)定(ding) 具自(zi)動(dong)關機(ji)功(gong)能。 整(zheng)套(tao)包括30次(ci)試劑(ji)K-2513/30.測量範圍：0--6.00mg/l

飲(yin)用(yong)水、純水(shui)、食品(pin)醫(yi)藥(yao)制程(cheng)水(shui)、循(xun)環冷(leng)卻水(shui)、泳池水、汙(wu)水(shui)處理(li)排(pai)放(fang)等(deng)消毒殺菌過(guo)程(cheng)的(de)臭氧監(jian)控。

自(zi)來(lai)水(shui)、飲(yin)用(yong)水、純水(shui)、食品(pin)醫(yi)藥(yao)制程(cheng)水(shui)、循(xun)環冷(leng)卻水(shui)、泳池水、汙(wu)水(shui)處理(li)排(pai)放(fang)等(deng)消毒殺菌過(guo)程(cheng)的(de)余氯監(jian)控。

 用(yong)途(tu)： 汙(wu)水(shui)處理(li)過(guo)程(cheng)汙(wu)泥(ni)濃度以及其(qi)他制程(cheng)漿(jiang)料濃度(du)的(de)監(jian)測 具自(zi)動(dong)清洗(xi)功(gong)能，耐(nai)汙(wu)染能力(li)。