電導(dao)率(lv)儀(yi)SUNTEX EC-4110為(wei)工(gong)業流程電(dian)導(dao)率(lv)在(zai)線監視(shi)面板(ban)式儀(yi)表，其量(liang)程(cheng)切(qie)換、常數(shu)校(xiao)驗均(jun)可通(tong)過後(hou)面(mian)板(ban)的操作部(bu)件(jian)自由(you)設定(ding)調(tiao)節；運(yun)行穩定(ding)、測量準(zhun)確(que)；自動(dong)溫(wen)度(du)補償(chang)；免(mian)維(wei)修，是各種(zhong)小型純(chun)水設備(bei)的(de)理(li)想配套(tao)儀表。 電導(dao)率(lv)儀(yi)在(zai)汙(wu)水(shui)處(chu)理(li)檢測上的(de)應用：
壹(yi)級(ji)處(chu)理(li)，主要(yao)去除(chu)汙水(shui)中(zhong)呈懸浮狀(zhuang)態的(de)固體(ti)汙染物(wu)質，物(wu)理(li)處理(li)法大部(bu)分只能(neng)完成(cheng)壹(yi)級(ji)處(chu)理(li)的要(yao)求(qiu)。經(jing)過壹(yi)級(ji)處(chu)理(li)的汙(wu)水，BOD壹(yi)般可去除(chu)30%左右，達(da)不到(dao)排(pai)放標(biao)準(zhun)。壹(yi)級(ji)處(chu)理(li)屬於(yu)二級(ji)處(chu)理(li)的預(yu)處理(li)。
二級(ji)處(chu)理(li)，主要(yao)去除(chu)汙水(shui)中(zhong)呈膠體(ti)和(he)溶(rong)解狀(zhuang)態的(de)有機(ji)汙染物(wu)質(BOD，COD物(wu)質)，去除(chu)率(lv)可達(da)90%以(yi)上(shang)，使(shi)有(you)機(ji)汙染物(wu)達(da)到排(pai)放標(biao)準(zhun)。
三級(ji)處(chu)理(li)，進壹(yi)步處(chu)理(li)難降(jiang)解的(de)有機(ji)物(wu)、氮(dan)和(he)磷(lin)等能夠導致(zhi)水(shui)體(ti)富(fu)營(ying)養化(hua)的可溶(rong)性無機(ji)物(wu)等。
主要方法有(you)生(sheng)物(wu)脫(tuo)氮(dan)除(chu)磷(lin)法(fa)，混(hun)凝(ning)沈(chen)澱(dian)法(fa)，砂濾法(fa)，活性炭吸(xi)附(fu)法等。
整個過程(cheng)為(wei)通(tong)過粗格(ge)柵(zha)的原汙水經(jing)過汙(wu)水(shui)提(ti)升泵提升後，經(jing)過格(ge)柵(zha)或(huo)者(zhe)砂濾器，之後(hou)進入(ru)沈(chen)砂池，經(jing)過砂水分離(li)的(de)汙(wu)水進入(ru)初(chu)次(ci)沈(chen)澱(dian)池(chi)，以(yi)上(shang)為壹(yi)級(ji)處(chu)理(li)(即物(wu)理(li)處理(li))，初(chu)沈(chen)池(chi)的出(chu)水進入(ru)生(sheng)物(wu)處(chu)理(li)設備(bei)，有(you)活性汙(wu)泥法(fa)和(he)生(sheng)物(wu)膜(mo)法，(其中(zhong)活性汙(wu)泥法(fa)的(de)反(fan)應器有曝氣池(chi)，氧(yang)化溝等，生(sheng)物(wu)膜(mo)法包括生(sheng)物(wu)濾池(chi)、生(sheng)物(wu)轉(zhuan)盤、生(sheng)物(wu)接(jie)觸氧(yang)化法(fa)和(he)生(sheng)物(wu)流(liu)化床)，生(sheng)物(wu)處(chu)理(li)設備(bei)的(de)出(chu)水進入(ru)二次(ci)沈(chen)澱(dian)池(chi)，二沈(chen)池(chi)的出(chu)水經(jing)過消(xiao)毒(du)排(pai)放或(huo)者(zhe)進入(ru)三級(ji)處(chu)理(li)，壹(yi)級(ji)處(chu)理(li)結(jie)束到此(ci)為(wei)二級(ji)處(chu)理(li)，三級(ji)處(chu)理(li)包括生(sheng)物(wu)脫(tuo)氮(dan)除(chu)磷(lin)法(fa)，混(hun)凝(ning)沈(chen)澱(dian)法(fa)，砂濾法(fa)，活性炭吸(xi)附(fu)法。二沈(chen)池(chi)的汙(wu)泥壹(yi)部分回(hui)流(liu)至(zhi)初(chu)次(ci)沈(chen)澱(dian)池(chi)或者(zhe)生(sheng)物(wu)處(chu)理(li)設備(bei)，壹(yi)部分進入(ru)汙泥濃(nong)縮(suo)池，之後(hou)進入(ru)汙泥消(xiao)化(hua)池，經(jing)過脫(tuo)水和(he)幹燥(zao)設備(bei)後(hou)，汙泥被(bei)最後(hou)利(li)用(yong)。
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